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질소 농도는 얼마나 웨이퍼를 날릴 수 있습니까?

반도체 제조 공정에서 질소 가스를 사용하여 웨이퍼를 분사하는 것은 주로 웨이퍼 표면을 청소하고 수분, 불순물 및 가능한 오염 물질을 제거하면서 웨이퍼의 산화를 방지하기 위해 사용됩니다.

일반적으로 웨이퍼 표면의 청결성을 보장하고 산화를 방지하기 위해 99. 5 % 이상의 질소 농도를 사용하는 것이 좋습니다.고순도 질소는 공기 중 산소와 수분을 효과적으로 제거하여 웨이퍼의 오염이나 산화를 피할 수 있습니다.

물론, 특정 질소 농도 요구 사항은 공정에 따라 다를 수 있으며, 실제 응용에서는 특정 공정 요구 사항 및 장비 사양에 따라 적절한 질소 농도를 결정해야합니다.

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